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Ntt Lsi研究所 | 論文
- ゼロサプレス型BDDを用いた非明示的積和形表現の高速因数分解法
- 2. 計算機上での BDD の処理技法 (<特集> BDD (二分決定グラフ))
- 「わくわく」 - 技術革新のキーワード -
- 共有二分決定グラフの「幅」に着目した変数順序づけ手法
- 0.5μm低電圧フルカスタムLSI設計技術 (0.5μmCMOS/BiCMOSフルカスタムLSI設計製造技術)
- シリコンの単結晶成長における酸素の混入と融液内対流
- 量子効果デバイスの研究
- 超低水分プロセスによる高信頼性極薄シリコン酸化膜
- バイアスECR法 (サブミクロン時代の平坦化技術(技術ノ-ト))
- 絶縁膜のウェットエッチング
- IF帯90゜分配・合成回路の一構成法
- Enhanced ARE法によるMnBi膜の形成
- クロック遅延回路
- CMOSによる高速位相整合回路
- 単一原子ドーピング法と離散的ドーパントデバイス評価
- 特集7 : 研究解説 : スタブ構造を有する量子細線における干渉現象の電界による制御
- CZ法によるLiGaO_2 単結晶育成とその評価 : バルク成長 II チョコラルスキー法
- X線発見100周年と放射線防護 -加速器の利用と放射線防護の課題-
- 高エネルギーイオンビームによる低温単結晶化(後編) : 低温単結晶化の機構を中心にして
- 高エネルギーイオンビームによる低温単結晶化(前編) : 実験結果を中心として