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Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology | 論文
- 計算化学手法によるダイヤモンドライクカーボン(DLC)の摩擦特性・微細構造の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 量子分子動力学法によるダイヤモンドライクカーボン膜生成過程の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 酸化物半導体を利用した透明薄膜トランジスタ : フレキシブルエレクトロニクスへの新たな可能性を開く
- セラミックスの電磁気的・光学的性質 II. 基礎電子状態の理解はセラミックスの研究にどう役立つか : 酸化物半導体のバンドラインナップを例として
- 28aPS-22 鉄族オキシニクタイド化合物LaFePO_F_x(x=0,0.06)(28aPS 領域8ポスターセッション(低温II(鉄砒素超伝導体,その他)),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 20pPSA-26 FドープLaFePOの圧力効果(20pPSA 領域8ポスターセッション(低温:Mn酸化物,V酸化物,鉄オキシニクタイドなど),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 24aPS-87 層状構造の新しい超伝導体LaOFePの圧力効果(24aPS ポスターセッション(低温),領域8(強相関係:高温超伝導,強相関f電子系など))
- ワイドギャップp型半導体LaCuOSeの高濃度正孔ドーピングと発光デバイス応用 (特集 高品質エピタキシャル薄膜の作製・デバイス化)
- 22pWH-14 Fe系層状超伝導体LaOFePの電気伝導特性と磁性(パイロクロア・その他超伝導,領域8,強相関係:高温超伝導,強相関f電子系など)
- 28pXQ-4 透明酸硫化物半導体LaCuOSにおける励起子量子ビートの観測(励起子ポラリトン・緩和励起子)(領域5)
- メチルトリエトキシシランと種々の金属アルコキシドから作製した有機無機ハイブリッドコーティング膜のオイルへの塗れ性と摺動特性(有機-無機変換プロセス)
- 遷移金属を含有するポリメチルシルセスキオキサン系ハイブリッド及びシリコンオキシカーバイドセラミックスの合成 : コーティング膜及び独立膜の作製
- シリコンオシキカーバイドセラミックス中の遊離炭素の酸化挙動のラマン分光法による解析
- ゾル-ゲル法によるC/C複合材料の界面制御に関する研究(C/C,OS.14 先進材料の力学)
- Si-O-Nb/Si-O-Ta結合を持つ有機無機ハイブリッドの熱分解挙動に関する研究
- 1,4-ブタンジオールとメチルトリエトキシシランを用いたSi-C-O系セラミックスの熱分解による合成及び評価
- 放射光のパルス特性を活かしたレーザーポンプ・放射光プローブ時間分解測定法の開発
- 固体物理の応用 アモルファス酸化物半導体の物性とデバイス開発の現状
- 23aTH-3 アモルファス半導体In-Ga-Zn-O膜の構造と伝導(液体・アモルファス・その他,領域6,金属,超低温,超伝導・密度波)
- なぜアモルファス酸化物がフレキシブルデバイス用半導体として注目されているのか (特集 ディスプレイを支えるキーマテリアル)
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