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Fukuoka Institute Of Technology | 論文
- Effect of Substrate Bias on Si Epitaxial Growth Using Sputtering-Type Electron Cyclotron Resonance (ECR) Plasma
- Room Temperature Deposition of Silicon Nitride Films for Passivation of Organic Electroluminescence Device Using a Sputtering-Type Electron Cyclotron Resonance Plasma
- Growth of Epitaxial Silicon Film at Low Temperature by Using Sputtering-Type Electron Cyclotron Resonance Plasma
- Score Sequence Pair Problems of (r_, r_, r_)-Tournaments : Determination of Realizability(Graph Algorithms,Foundations of Computer Science)
- 放電プラズマ計測へのレｰザｰ散乱および蛍光法の適用 : 電子特性, 電界測定を中心にして
- 第3段階非協同レーザートムソン散乱によるプラズマ計測の進展
- レーザーによるプラズマ計測
- 25pB01 第3ステージ非協同レーザートムソン散乱によるプラズマ計測の進展(プラズマ基礎・応用I)
- レーザー応用プラズマ計測の新展開 : 第3段階非協同トムソン散乱計測を中心にして
- H2/CH4マイクロ波放電プラズマ内における分子及び電子の挙動のレーザー散乱計測
- 第1回トリポリ・プラズマワークショップに参加して
- Applicabilities of Laser Thomson Scattering to Various Kinds of Discharge Plasmas
- マルチヌル放電を用いた新しいスパッタシステムの開発
- グロー放電プラズマのレーザートムソン散乱計測による研究
- 第10回レーザー応用プラズマ計測に関する国際シンポジウム(LAPD10)(会議報告)
- 30aA03 [招待講演]高気圧気体中の放電プラズマのレーザー散乱計測(プラズマ計測)
- 27pA39P 磁気中性線放電プラズマのスパッタリングへの応用(プラズマ基礎・応用)
- 磁性研究30年の道程 : 低次元磁性体で何を見たか
- IV. まとめ及び将来への展望
- Deposition of High-Quality Silicon Oxynitride Film at Low Temperature by Using a Sputtering-Type Electron Cyclotron Resonance Plasma