スポンサーリンク
高知工科大学総合研究所 | 論文
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- プラズマ化学気相成長法による電界電子エミッター用ナノ構造薄膜の作製と評価
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
- 酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- "酸化亜鉛を利用した新産業創成"を目指す高知