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静岡大学 | 論文
- 3213 多点同時電気抵抗変化測定法による統計的損傷検知のCFRP構造への適用(J06-4 損傷検知・診断,J06 知的材料・構造システム)
- 静岡県経済成長のメカニズム
- 5513 原子間力顕微鏡(AFM)プローブ機能付き4端子プローブの開発(J19-3 マイクロメカトロニクス(3),J19 マイクロメカトロニクス)
- 新型光源への応用を目指した新しいグラファイトフィールドエミッタの開発
- 新型光源への応用を目指した新しいグラファイトフィールドエミッタの開発(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- マイクロマシンツールを用いたDNA計測システム
- 化学気相法による六方晶BN粉末の作製 (電子ディスプレイ)
- レーザアニールによるSrGa2S4:Eu薄膜蛍光体の作製と発光特性 (電子ディスプレイ)
- クエン酸ゲル法を用いて合成した近紫外線励起用赤色蛍光体La_2O_2S:Euの発光特性(発光型/非発光型ディスプレイ技術の進展)
- 広色域表示を目指した蛍光体材料の研究
- AS-3-6 広色域実現を目指した蛍光体の研究(AS-3.イメージメディアクオリティの基盤技術,シンポジウムセッション)
- クエン酸ゲル法によるLa_2O_2S:Eu合成における粒径制御(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 六方晶BN粉末の紫外発光に対する熱処理の効果(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 加圧焼成によるZnCdO粒子の作製(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 化学気相法によるGaN系ナノ構造埋め込み型粒子の作製(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- レーザアニールによるSrGa_2S_4:Eu^薄膜蛍光体作製プロセスの低温化(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- クエン酸ゲル法によるLa_2O_2S:Eu合成における粒径制御(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 2.1 溶融塩Flibeの化学挙動(2.溶融塩Flibeシステムの研究,日米科学技術協力事業JUPITER-IIプロジェクト)
- IV-VI族半導体赤外線レーザ
- CMOSイメージセンサの暗電流に対する負電圧駆動および光ストレスの効果(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール)
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