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長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター | 論文
- プラズマCVD法によるSi_3N_4-SiC系非晶質膜の軽イオンビーム照射損傷
- ナノ粒子の実用と企業化への期待 金属超微粒子とカーボンナノチューブの作製
- パルス細線放電法によるSnO_2ナノ粒子の粒径分布
- パルスイオンビーム蒸着法を用いた堆積・反応同時プロセスによるHf-Si-O薄膜の作製
- 仮想陰極発振器による大電力マイクロ波の発生とその評価
- 610 パルス細線放電法による超微粒子作製
- パルスパワー技術による新材料合成
- パルスイオンビームプロセス (小特集 イオン技術の新しい発展)
- 7 パルスパワー技術による高密度プラズマ発生と新機能材料合成(プラズマの基礎・応用研究最前線(中部地区若手・中堅研究者の挑戦))
- パルス細線放電法による成膜実験
- パルスレーザーアブレーション法で作製したAlN薄膜の特性
- パルスレーザーアブレーション法で作製したAlN薄膜の特性
- 背面堆積パルスイオンビーム蒸着法によるBaTiO_3薄膜の生成と特性評価
- 大強度パルスイオンビーム蒸着法で生成されたBaTiO_3薄膜の特性評価
- 大強度パルス軽イオンビームを用いた超微粒子の生成
- 2.パルスパワー技術の歴史とその仕組み(パルスパワー技術入門)
- 1.はじめに(パルスパワー技術入門)
- パルスレーザーアブレーション法で作製した(Cr, Al)N薄膜の特性
- パルスパワーを用いた材料開発 : パルスレーザーデポジション法による(Cr,Al)N薄膜の合成
- PLD法で成膜したAlN薄膜表面の粗さ評価