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東北大選研 | 論文
- Influence of Substrate Bias Voltage on the Impurity Concentrations in Hf Films Deposited by Ion Beam Deposition Method
- Agglomeration of Copper Thin Film in Cu/Ta/Si Structure
- 非質量分離型イオンビームデポジションによるTa拡散バリア膜の作製と評価
- 物理精製研究分野 (2000.1-2000.12)(研究活動報告)
- 物理精製研究分野 (1999.1-1999.12) (研究活動報告)
- Influence of Substrate Bias Voltage on the Properties of Cu Thin Films by Sputter Type Ion Beam Deposition
- Improvement of Ta Barrier Film Properties in Cu Interconnection by Using a Non-mass Separated Ion Beam Deposition Method
- ブリッジマン法によるZnSe単結晶の成長
- 物理精製研究分野 (1998.1-1998.12) (研究活動報告)
- 抽出クロマトグラフィによるLaの分離特性の研究
- 半導体グレード世界最高超高純度鐵およびコバルトの開発
- ICP 発光分光分析における遷移金属元素の発光スペクトル強度に対する酸濃度の影響
- Modeling of Elution Curves in Preparative Chromatography Using Anion-Exchange Resin for Cobalt Purification
- Purification of Manganese Chloride with Chelating Resin Containing Iminodiacetate Groups in Ammonium Chloride Solution
- Copper Purification by Anion-Exchange Separation in Chloride Media
- イオンビームデポジション (IBD) 法で作製した鉄薄膜の超高圧電子顕微鏡による評価
- 10a-L-14 Pt-M(M;Cr,Mn Co)の強制磁歪
- 27p-H-6 ^Fe Mossbauer効果による純鉄中の点欠陥 II
- 30p-W-6 ZnSeにおける光検知サイクロトロン共鳴
- 溶媒抽出による鉄の高純度精製