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東京電機大学工学部情報通信工学科 | 論文
- 音声・音響技術の福祉への応用とその品質評価
- 共通極・留数モデルに基づく室内伝達関数の補間と外挿
- マルチメディア研究最前線(最終回)福祉に貢献する音声・音響技術
- 近接音場型マイクロホンアレー
- 近接音場型マイクロホンアレーの検討
- 音声会議用マイクロホン
- UWB双方向電波伝搬路モデルを用いたUWB伝送特性評価の有効性検証
- AS-2-2 UWB双方向電波伝搬路モデルを用いたUWB伝送特性評価の有効性検証(AS-2.ウルトラワイドバンド(UWB)の最近の技術展開,シンポジウム)
- ABS-1-5 オフィス環境におけるUWB双方向時空間チャネル測定(ABS-1. ブロードバンドワイヤレスにおける電波伝搬, 基礎・境界)
- ABS-1-5 オフィス環境におけるUWB双方向時空間チャネル測定(ABS-1. ブロードバンドワイヤレスにおける電波伝搬, 通信1)
- H_2-N_2系グロー放電プラズマ中の電子エネルギー状態
- C-11-1 シリコンナノウォールの作製(C-11.シリコン材料・デバイス,一般セッション)
- 赤外分光法を用いたアモルファス炭化シリコン膜のその場観察とSiH_4-CH_4プラズマの発光分光分析
- シリコン系アモルファス薄膜の熱的構造安定性に関する研究
- SiH_4-CH_4系ガスのグロー放電分解により生じるプラズマの発光特性(半導体材料・デバイス)
- SiH_4-N_2プラズマ中におけるN_2ラジカルの発光特性
- 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により生じるH_2-N_2プラズマ状態の解析
- C-11-2 原料ガス分離分解型プラズマCVD法を用いたa-SiN:H薄膜の作製(C-11. シリコン材料・デバイス, エレクトロニクス2)
- 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により作製したa-SiC:H膜の光学的特性
- 水素化アモルファスシリコンと金属間の界面反応とシリサイドの形成機構