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東京応化工業(株) | 論文
- 超LSI製造の高機能レジストおよび特殊現像液による微細加工の新展開
- ポジ型レジスト特性に及ぼす溶剤の影響
- 縮小投影露光におけるポジ型ホトレジスト中のホトセンシタイザ-量のパタ-ンプロファイルへの影響
- レジストの使い方 (レジスト(技術ノ-ト))
- 高解像度レジスト (「高機能・高性能有機材料」)
- フォトレジスト技術の最近の進歩
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- イオン照射型DTMにおける磁気特性解析
- ポジ型ホトレジストの高解像化メカニズムの解析
- テトラチオシアナトコバルト(II)酸錯体と非イオン界面活性剤とを金属指示薬とする迅速キレート滴定法
- 誘導結合型プラズマ質量分析法による超大規模集積回路用ホトレジスト溶液中のナトリウム及び鉄の定量
- GAP/AN/AP系低公害推進薬の低圧における着火特性 -マグナリウム効果について-
- フォトリソグラフィ(1)レジスト材料
- バンプめっき用フォトレジストの現状 (フォトレジストと微細加工技術)
- チオシアナト-Nコバルト(II)酸錯体とイオン界面活性剤との付加物生成に対するアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの影響^
- バンプめっき用フォトレジストの現状
- 高解像度レジスト
- ポーラス low-k 膜のUVアニール技術 : SOD材料とUVプロセスの最適化
- ポジ型ホトレジストの耐熱性,耐プラズマ性の向上 (光化学反応とその応用-2-)