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旭サナック(株) | 論文
- 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパッドコンディショニング法の開発 : 酸化膜ILDの連続CMPにおける研磨特性とパッド表面状態の評価
- 高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究 : 粒子挙動解析と洗浄実験による考察
- 超高圧マイクロジェットによる半導体CMPパッドの洗浄・コンディショニング技術
- 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパッドコンディショニングに関する研究 : 蛍光スラリーを利用したパッド溝内のスラリー残渣の洗浄性確認
- 高圧マイクロジェットを用いたCMPパッドコンディショニング技術
- 新しい高圧マイクロジェット洗浄技術の提案とその装置化 : ポリッシングパッドのコンディショニングへの適用
- 棒線材におけるローラーレベラーによるコイル材高真直化の実験的・解析的検討
- 615 棒線材ローラレベラ実験による真直度限界について : 棒線材におけるローラレベラ矯正 第1報(OS 塑性加工(4))
- 噴霧塗装における噴射パタ-ン内塗粒分布と塗膜膜厚分布の数値解析による平滑性の評価 (色材の分析と計測)
- 高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究 : —ノズル形状の違いが洗浄力に与える影響—
- H14 有機EL材料の噴霧とその平坦化に関する検討(H1 加工(CMP-1))
- スプレー式洗浄の粒子解析と洗浄力に関する考察 : ―二流体スプレーと高圧マイクロジェットの洗浄力比較―
- 超高圧マイクロジェットによる精密洗浄システムとオプトエレクトロニクス部品プロセスへの適用 (特集 最近のオプトメカトロニクス用材料の加工・洗浄技術を追う)
- 超高圧マイクロジェット精密洗浄装置「HPMJシリーズ」 (液晶ディスプレイ技術2002年) -- (液晶ディスプレイ製造技術編)
- [新技術開発レポート1] 超高圧マイクロジェット洗浄法の開発
- 超高圧マイクロジェットを用いたパッドドレッシングに関する研究
- 新しい超高圧ジェットを用いたパッドドレッシング技術
- 圧造機フレ-ムの構造解析と実験--有限要素法による考察 (薄板のプレス加工とその周辺技術)
- 積分方程式への写像理論の応用および歯車解析 : 平野の方法への新しい展開および内点計算
- 塗り替え塗装時の塗料飛散を防止する高塗着スプレーシステム