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日立金属株式会社先端エレクトロニクス研究所 | 論文
- 導波路集積化MQW-EA型光変調器
- 伸張歪みInGaAs/InAlAs MQW電界吸収型光変調器 : 伸張歪み導入によるMQW電界吸収型光変調器の動作電圧低減
- 単ーモードによる低ノイズ青色発生LD励起Cr:LiSAF-SHGレーザ
- C-3-48 エタロン斜め反射型可変分散補償器の分散量拡大方法(光ファイバ・ファイバグレーティング・補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- 選択MOCVD成長による多重量子井戸構造の量子準位エネルギー制御と光集積素子への応用
- Sm_2Fe_のHD処理過程において見られる Fe マトリックス中の繊維状 SmH_2 の規則配列
- ナノ結晶軟磁性材料の動向と展望
- 複合磁性材料を適用した永久磁石回転子
- 0.65C-13Cr-Fe合金の非磁性相の低温安定化の検討(ソフト磁性材料)
- 0.65C-13Cr-Fe非磁性相の低温安定化の検討
- 携帯電話用アイソレータの小型化
- 2本の中心導体を有する集中定数型アイソレータの回路解析
- 携帯電話端末用小型アイソレータの高機能化 (特集 モバイル関連セラミック電子材料および部品)
- 被覆工具用α-Al_2O_3 CVD膜のエピタキシャル成長と高密着性
- Ti(C,N)膜への結合膜とα-Al_2O_3膜のエピタキシャル成長機構の研究
- 切削工具用α-Al2O3膜のエピタキシャル成長機構の研究
- α-Al_2O_3被覆工具の高密着性化機構の研究
- 高密着性α-Al_2O_3膜被覆切削工具のミクロ組織
- TiN-Ti(C, N. )- 結合膜-α-AL_2O_3 膜被覆切削工具のマイクロ組織と切削特性
- C-3-63 双方向性光パワーモニタ(光モジュール)(C-3.光エレクトロニクス)