被覆工具用α-Al_2O_3 CVD膜のエピタキシャル成長と高密着性
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概要
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- 2003-12-20
著者
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川田 常宏
日立金属(株)先端エレクトロニクス研究所
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石井 敏夫
日立ツール株式会社成田工場
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植田 広志
日立ツール株式会社成田工場
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権田 正幸
日立金属株式会社先端エレクトロニクス研究所
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川田 常宏
日立金属株式会社先端エレクトロニクス研究所
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