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日本電子(株) | 論文
- 赤外ビジコン型サーモグラフ(日本医用サーモグラフィ研究会)
- 試料ドリフト補正による高倍率EDSマッピング
- 異材接合体におけるき裂近傍の赤外線画像応力場と破壊強度
- 234 爆接クラッド材におけるき裂近傍の応力場
- NMRを用いた生理活性ペプチドの溶液構造解析の実際-1-NMR測定編
- Ω型エネルギーフィルターを内臓した超高真空電子顕微鏡の開発
- 走査型電子顕微鏡における電子ビーム偏向による像ノイズの低減
- 29p-PSA-16 中性子散乱による基底一重項磁性体CsFeCl_3の不整合相の研究
- 31a-TJ-10 収束電子回折法による結晶構造解析用エネルギーフィルタ
- 4. CRYO-SEM,フリーズ・レプリカによる凍結傷害発生機構の研究(平成元年度第35回凍結及び乾燥研究会研究報告)
- CRYO-SEM像,フリーズ・レプリカ像を連続観察するためのNEW CRYO-UNITの開発とその応用(昭和63年度第34回凍結及び乾燥研究会研究報告)
- 31p-PSB-22 ステップのあるSi(001)表面のc(4×2)ドメイン形成
- 双晶構造を含む酸素欠損型LaMnO_の高分解能電子顕微鏡観察
- 基底一重項磁性体CsFeCl_3の核磁気緩和 II
- 6a-B4-6 UHV-高分解能SEMの作成
- 4a-M-9 電界放出型電子銃を用いた収束電子回折
- 9a-Z-2 収束電子線回折装置作製とその応用
- 23aT-10 Si(111)7×7上のホモエピタキシャル成長初期過程のSTMによるその場観察(II) : 基板の積層欠陥の解消と二次元核の結晶化
- 24aY-3 Si(111)上のホモエピタキシャル成長初期過程のSTMによるその場観察
- 30p-S-8 Si(111)-(n×n)-DAS構造形成のアトムプロセス