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日本真空技術(株)筑波超材料研究所 | 論文
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- TiN成膜したステンレス箔の水素透過特性評価
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- Low-kインテグレーション (全冊特集 300mm/130nm対応の半導体製造装置)
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の電気特性(II)
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe膜の電気特性
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜の電気特性
- 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタを用いた極薄アルミナ膜の作製
- 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタ放電におけるイオンエネルギー分布
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のGMR特性 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- ICP支援スパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のMR特性
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- 蒸着重合法によるポリイミド厚膜形成とその応用
- 蒸着重合技術 - 分子オーダ構造制御の有機機能薄膜形成 -
- 芳香族ポリウレタン・ポリエステルの高温蒸着重合法による作製
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