蒸着重合ポリ尿素膜のフォトレジスト特性
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概要
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蒸着重合法で得られる芳香族ポリ尿素膜は、真空中で加熱するとポリ尿素膜の特徴である解重合反応(重合の逆反応)が起こり、結果的に膜は消失する。このポリ尿素膜の特性を活かしフォトレジスト材料への応用について検討を行った。結果、芳香族ポリ尿素膜は紫外線露光と加熱現象処理によりネガ型レジスト材料としての機能のあることが確認できた。また、紫外線照射後のポリ尿素膜の耐電圧を測定した結果、As-depo(紫外線未照射)膜と比較して、5倍以上の値が得られた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-08-09
著者
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高橋 善和
日本真空技術株式会社筑波超材料研究所
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飯島 正行
日本真空技術(株) 筑波超材料研究所
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佐藤 昌敏
日本真空技術(株) 筑波超材料研究所
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飯島 正行
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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飯島 正行
日本真空技術 (株) 筑波超材料研究所
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高橋 善和
日本真空技術 (株) 筑波超材料研究所
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