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大阪産業大学工学部電子情報通信工学科 | 論文
- 酸化亜鉛系ホモp-i-n接合の作製と光起電力特性
- パルスレーザー堆積法を用いて作製した積層型透明導電膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに垂直な磁場を印加して作製したZnO:Ga透明導電膜
- パルスレーザー堆積法を用いて磁場下で作製した透明導電膜
- 高周波スパッタリング法を用いて作製した金属インジウム・酸化ガリウム光記録膜
- 多元同時スパッタリング法により作製したZnO系光記録膜
- 高周波スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜(II)
- 高周波スパッタ法により作製したGaIn系酸化物光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3+In_2O_3光記録膜
- スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- パルスレーザー堆積法により作製した耐熱特性を有する酸化亜鉛上のアンチモンドープ酸化スズ積層型透明導電膜の電気的・光学的特性
- (3) 透明導電膜
- PLD法により作成したZnO系光記録膜
- GaxSe1-xと薄膜光メモリにおける結晶-非晶転移機構