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大阪府立大学工学部電子物理工学科 | 論文
- 高周波スパッタリング法にて作製したZnO : Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi_2薄膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3-In_2O_3系透明導電膜
- Qスイッチモード同期ファイバーレーザー
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- 新しいスピン偏極電子線源とその応用
- 希ガスを用いた容量結合型放電に対する電極材質の影響
- 新型マグネトロンプラズマによるレジストエッチング
- カスプ磁場を有する並行平板型高周波プラズマの特性
- ポリシラン-シリカナノ粒子ハイブリッド薄膜の作製と光学特性
- PA07 Auグレーティング上におけるネマティック液晶のアンカリング特性(2004年日本液晶学会討論会)
- ジルコニア中に分散させたポリジヘキシルポリシランにおけるサーモクロミズムの抑制(センサデバイス・MEMS・一般)
- V帯ドレイン注入/レジスティブデュアルモードモノリシックミクサ
- レジスティブミクサの動作解析
- C-2-12 レジスティブミクサの動作解析
- 垂直配向ネマチック液晶セルの過渡応答 : フロー効果と過渡電流