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住友重機械工業(株)技術開発センター | 論文
- 28pSM-6 フォトカソードRFガンによる高輝度電子線発生
- 28pSM-5 レーザートムソン散乱による短パルスX線の発生
- 免震された精密生産施設のためのピエゾアクチュエータを用いた総合的アクティブ微振動制御システム(機械力学,計測,自動制御)
- 研究速報「免震精密生産施設のための圧電アクチュエータを用いた総合的アクティブ微振動制御システム -第2報、 スマート構造による外来・内生微振動制御システムー」
- 442 免震半導体工場の総合的アクティブ微振動制御 : 内生微振動と外来微振動の制御-その2
- 研究速報「免震精密生産施設のための圧電アクチュエータを用いた総合的アクティブ微振動制御システムー第1報、スマート構造による内生微振動の制御ー
- 109 免震半導体工場の総合的アクティブ微振動制御 : 内生微振動と外来微振動の制御-その1(免震構造3・計測システム,OS-12:耐震・免震・制振(1))
- 圧電アクチュエータによる免震半導体工場のアクティブ微振動制御 : 内生微振動の制御-その2(J09-3 振動・システム同定,J09 知的材料・構造システム)
- 243 免震半導体工場の総合的アクティブ微振動制御 : スマート構造による内生微振動の制御-その2
- 243 免震半導体工場の総合的アクティブ微振動制御 : スマート構造による内生微振動の制御-その 2
- 643 圧電アクチュエータによる免震半導体工場のアクティブ微振動制御 : 内生微振動の制御-その 1
- 504 免震半導体工場の総合的アクティブ微振動制御 : スマート構造による内生微振動の制御その 1
- レーザを用いた金属上透明薄膜の除去加工 (特集 レーザー加工技術)
- C-3-113 MEMSを用いたサージ光抑制器の開発(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 高速・高精度な位置・荷重制御を実現する静圧軸受を用いたエアアクチュエータ
- エキシマレーザによるセラミックスの加工
- K-2311 超磁歪アクチュエータによる免震された精密生産施設のアクティブ微振動制御(J03-1 知的要素技術(1))(J03 知的材料・構造システム)
- 745 超磁歪アクチュエータを用いたスマート構造による精密生産施設のアクティブ微振動制振
- ピエゾアクチュエータを用いたスマート構造による精密生産施設のアクティブ微振動制振
- コンパクトピコ秒パルスラジオリシスシステムを用いた紫外固体レーザー結晶Ce^ : LiCaAlF_6の電子線パルス励起による特性評価