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京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 | 論文
- ミストCVD法によるコランダム型構造酸化物半導体薄膜の作製と評価
- 多重RESURF構造を用いた横型SiC MOSFETのドーズ最適化(半導体Si及び関連材料・評価)
- 2次元フォトニック結晶レーザの出射ビームの集光特性(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- CS-2-5 左手系を実現するチップ型電子部品の開発(CS-2.メタマテリアル技術とそのマイクロ波応用の最新動向,シンポジウムセッション)
- 積層セラミックコンデンサの新しい共振モード : メタマテリアルへの応用
- C-2-33 チップコイルによるメタマテリアルの可能性(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- C-2-81 積層セラミックコンデンサによるメタマテリアルの可能性(C-2. マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- 面心長方格子を用いた2次元フォトニック結晶レーザ (光エレクトロニクス)
- 時間遅れフィードバック制御された系における解の一様終局有界性について
- 気相法による酸化亜鉛半導体薄膜のステップフローホモエピタキシャル成長
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収型多層光メモリへの応用
- 多形を有する半導体SiC単結晶のステップ制御エピタキシ-
- プラズモニクスを利用したLEDの高速・高効率化(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
- 60MHz帯疎結合マイクロストリップ方向性結合器(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- 40dB以上の方向性を有する13.56MHz帯大電カマイクロストリップ方向性結合器(マイクロ波シミュレータ/一般/学生会)
- 13.56MHz帯疎結合マイクロストリップ方向性結合器
- 球面上の電場は定義すべきか(講義室)
- 真空のインピーダンスと単位系
- SC-1-7 メタ物質 : 入門(SC-1.光新技術の理論的課題 : 近接場ナノ光学・フォトニック結晶・負屈折率媒質)
- デコヒーレンス
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