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三菱電機(株)材料デバイス研究所 | 論文
- 640×480画素SOIダイオード方式非冷却赤外線FPA
- 25μmピッチ320×240画素SOIダイオード方式非冷却赤外線FPA
- 分子線およびレーザー照射による光化学反応性分子膜の作製
- 光変調オーバライト媒体における膜設計と組成マージン : 光磁気記録関連 : 画像情報記録
- 光磁気ディスク用SiN_x誘電体膜の作成条件と特性
- TbFeCo二層膜光磁気ディスク媒体 : 録画
- 4)GdTbCoスパッタ膜の磁気特性と磁気光学特性(録画研究会(第74回))
- GdTbCoスパッタ膜の磁気特性と磁気光学特性
- HfSiO_x薄膜のXAFSによる局所構造解析(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- 厚い軟磁性膜の磁区構造
- 光変調オーバライト磁気超解像ディスクのローパワー消去特性
- 8-6 磁気超解像光磁気ディスクの磁区拡大現象
- 磁気超解像・光変調オーバライト光磁気ディスクの特性
- 磁気超解像を用いた光変調ダイレクトオーバーライト技術
- 磁気超解像LIMDOW光磁気ディスク
- 紫外線吸光光度法を用いた汚泥中窒素濃度簡易測定法
- 偏光軟X線吸収分光による有機分子線蒸着法で成膜したα-Sexithienylの分子配向に関する研究
- 放電表面処理における電流パルス形状の検討
- 放電表面改質膜の結晶構造に関する研究
- 電動パワーステアリングの安全性評価