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三菱マテリアルシリコン(株) | 論文
- CMPによるシリコンウェハの平坦化に関する研究(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 27a-N-3 CZシリコン中の酸素析出反応を利用した自己格子間原子の検出
- フローティングヘッドを用いたCMPにおけるウエハエッジ部の研磨プロファイルに関する研究
- フローティングヘッドを用いたCMPにおけるウェーハエッジ部の研磨ばらつき
- CMPにおけるシリコンウェハ接触面の圧力分布について
- Siエピタキシャル成長におけるCOPピットの挙動(バルク成長分科会特集 : シリコン結晶の最近の話題から)
- TXRFの現状と将来展望
- 連続チャージ型 MCZ 結晶に形成される結晶欠陥の制御 : バルク結晶成長シンポジウムII
- CZシリコン中の欠陥核形成に及ぽす熱履歴の影響 : シンポジウムI