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コマツ電子金属 | 論文
- シリコン単結晶の酸素濃度均一性と融液の蒸発
- シリコン単結晶中の酸素濃度制御技術の開発
- CZ-Si結晶中酸素濃度均一性と融液自由表面からのSiO蒸発(バルク成長分科会特集 : 結晶成長時における気液界面の物質移動と結晶に与える影響)
- 高性能・微細ひずみSOI-MOSFET
- 高性能・部分空乏型および完全空乏型ひずみSOI-MOSFET(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 高性能・部分空乏型および完全空乏型ひずみSOI-MOSFET
- 622 半導体製造装置用アクティブ除振装置の開発
- 低ドーズSIMOXウェーハの埋込酸化膜におけるITOXの効果
- 12インチシリコンインゴット切断用水溶性油剤の開発