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ギガフォトン(株) | 論文
- レーザー学会産業賞を受賞して : 高出力ArFエキシマレーザー開発の経緯
- 石英ガラスの4.4eV発光の照射効果
- 放電励起Kr_2エキシマレーザー
- 半導体露光用エキシマレーザー・EUV光源の過去, 現状そして将来
- リソグラフィー用KrFエキシマレーザーの出力スペクトルの高精度評価
- リソグラフィ用ArFエキシマレーザーの現状と将来
- 150. Kr_2^*エキシマ光の窒素による吸収特性
- 44.誘電体バリア放電を利用したヘッドオン型Ar_2^*、Kr_2^*エキシマランプの特性((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
- エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
- 真空紫外エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリア放電エキシマランプを用いた薄膜形成
- 154. Xe_2^*エキシマランプによるUV/O_3洗浄
- 149. Xe_2^*エキシマランプの172nm放射の測定
- 35. 短波長ロングアークランプの特性
- エキシマランプを用いた非線形光学結晶のエッチング
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 43.希ガス-塩素系誘電体バリア放電エキシマランプにおけるE/pと放射効率((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
- 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリアエキシマランプを用いた光CVDによる石英コーティングの開発
- ガスジェット放電励起真空紫外キセノンエキシマ光源