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ギガフォトン(株) | 論文
- S-8 誘電体バリア放電励起エキシマランプ
- 49. 誘電体バリア放電Xe_2^*エキシマランプの並列点灯による大面積真空紫外平面光源
- 48. 中空ライトガイド付きヘッドオン型Xe_2^*エキシマ光照射装置
- 24. UV照射による石英ガラスのガス放出特性
- ガスジェット放電励起キセノンエキシマ光源の高性能化
- 無声放電励起希ガスエキシマフラッシュランプ
- リソグラフィ用ArFエキシマレーザー光源およびEUV光源の開発の現状
- 真空紫外希ガスエキシマランプを用いた光CVD
- 半導体開放スイッチを用いた誘導性パルスパワー電源によるエキシマレーザの発振
- SOSダイオードを用いたパルスパワー電源によるエキシマレーザの発振
- SOSダイオードを用いた高効率エキシマレーザ用電源の開発
- 各論 エキシマレーザ技術の進歩と次世代技術の現実的対応 (特集2 半導体製造技術・装置の技術展望)
- 誘電体バリア放電エキシマランプの原理と応用
- パルスパワー装置出力の短パルス化によるKrFエキシマレーザーの総合効率改善
- はじめに(リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
- 次世代リソグラフィ紫外ガスレーザーの現状と開発の方向
- F2レーザリソグラフィの課題とレーザ光源開発への取り組み (特設記事 21世紀を創るエレクトロニクス技術)
- 次世代リソグラフィ紫外ガスレーザーの現状と開発の方向
- F_2レーザーの現状とリソグラフィー応用への展望
- リソグラフィ用F_2レーザー