八甫谷 明彦 | (株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社
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概要
(株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社 | 論文
- 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法(微細化対応技術,デザインガイア2011-VLSI設計の新しい大地-)
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- 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法