Tanaka Yoshinobu | Tokyo Electron Technology Development Institute Inc., Amagasaki, Hyogo 660-0891, Japan

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概要

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• 同名の論文著者
• Tokyo Electron Technology Development Institute Inc., Amagasaki, Hyogo 660-0891, Japanの論文著者

関連著者

• NOZAWA Toshihisa

  TOKYO ELECTRON LTD.

• Ueda Hirokazu

  Tokyo Electron Technology Development Institute Inc., Amagasaki, Hyogo 660-0891, Japan

• Tanaka Yoshinobu

  Tokyo Electron Technology Development Institute Inc., Amagasaki, Hyogo 660-0891, Japan

• Ohsawa Yusuke

  Tokyo Electron Technology Development Institute Inc., Amagasaki, Hyogo 660-0891, Japan

著作論文

• High-Quality SiO2 Film Formation below 400 °C by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Tetraethoxysilane Source Gas

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