山田 哲夫 | 宇部興産(株)宇部研究所

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概要

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関連著者

• 山田 哲夫

  宇部興産(株)宇部研究所

• 山田 哲夫

  宇部興産(株)中央研究所

• 山田 哲夫

  宇部興産(株)

• 島田 昌彦

  東北大学工学部応用化学科

• 小泉 光恵

  大阪大学産業科学研究所

• 島田 昌彦

  大阪大学産業科学研究所

• 小泉 光恵

  竜谷大

• 田中 敦彦

  宇部興産(株)中央研究所

• 阿竹 徹

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 阿竹 徹

  東京工業大学

• 川路 均

  東京工業大学

• 藤森 宏高

  山口大学工学部

• 岡田 清

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 後藤 誠史

  山口大学工学部

• 井奥 洪二

  山口大学工学部

• 岡田 清

  東京工業大学

• 後藤 誠史

  山口大学大学院医学研究科応用医工学系

• 山田 哲夫

  宇部興産

• 藤森 宏高

  山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻

• 井奥 洪二

  山口大学大学院医学研究科

• 山下 勲

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 井奥 洪二

  東北大学大学院環境科学研究科 環境科学専攻

• 岡田 清

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 長尾 圭吾

  宇部興産株式会社

• 西村 浩介

  宇部興産株式会社

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著作論文

• 高圧焼結法による無添加Si_3N_4焼結体の作成と性質(セラミック材料小特集)
• 高圧力下において作製した窒化ケイ素焼結体の高温硬度
• 高圧力下における窒化ケイ素の相転移とち密化との相関
• 熱間静水圧圧縮法による TiN の作製
• α-Si_3N_4粉末の低温熱容量
• 圧電・超音波材料 反応性スパッタ法によるAIN薄膜の作製--薄膜バルク弾性波共振器(FBAR)への適用
• 固体NMRによるイミド熱分解法により合成した窒化ケイ素粉末の結晶化過程の観察

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