田部井 雅利 | アルバック
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概要
アルバック | 論文
- 28a-S-6 高速イオンビームシャドーイング II.イオンの固体内荷電状態
- 28a-S-5 高速イオンビームシャドーイング I.固体結合電子分布の解析
- 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用
- 新型Low-kシリカ膜 : 高規則性を有した空孔構造