並河 洋 | 電子技術総合研究所 : (現)日本酸素(株)
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概要
関連著者
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並河 洋
電子技術総合研究所 : (現)日本酸素(株)
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並河 洋
電気試験所
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宗像 元介
職業訓練大学校
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熊田 虔
電子技術総合研究所
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宗像 元介
電気試験所
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並河 洋
電子技術総合研究所
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熊田 虔
電気試験所
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根岸 明
電子技術総合研究所
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荒井 和雄
電子技術総合研究所材料科学部
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荒井 和雄
電子技術総合研究所
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半田 隆
電子技術総合研究所
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荒井 和雄
電総研
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石井 芳朗
東京理科大学理学部応用化学科
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野田 曜裕
電子技術総合研究所
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根岸 明
電子技術総合研究所エネルギー基礎部
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宗像 元介
工業技術院電気試験所
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中島 達二
電気試験所
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並河 洋
工技院電気試験所
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熊田 虔
工技院電気試験所
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宗像 元介
工技院電気試験所
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並河 洋
工業技術院電気試験所
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浅原 慶之
保谷硝子KK
著作論文
- プラズマトーチCVD法によるNd-Al共ドープSiO_2ガラス合成と蛍光特性
- 硼珪酸ガラスの直流伝導および低周波誘電吸収における硼酸異常現象の欠如
- 電子伝導性酸化物ガラスの直流分極と誘電緩和
- WO_3-BaO-P_2O_5 系ガラスの吸収電流
- BaO-P_2O_5系ガラスの転移温度と構造に及ぼす残留水分の影響
- A3.P_2O_5-BaO系硝子中の水と赤外吸収(研究発表講演要旨)
- V_2O_5-V_2O_4-P_2O_5系ガラスの電気的特性
- 吸収電流法による酸化物ガラスの誘電緩和の測定
- 低温域における電子伝導性酸化物ガラスの直流伝導と低周波誘電吸収
- 新しい誘電体が解決する10の電気絶縁上の問題点
- 混成集積回路 (hybrid IC) におけるセラミックス
- 新しいガラス状半導体
- カルコゲナイドガラスを用いた薄膜ダイオード
- 半導性ガラスで結合したマイカ : 新しい電子機器用セラミック複合材料
- Dy_2O_3-B_2O_3-SiO_2 系薄膜コンデンサーの電気的性質
- Tl_2Se・As_2(Se, Te)_3 系ガラス状半導体の導電率と熱電能
- BaO-P_2O_5 系ガラスの誘電特性の異常現象
- BaO-P_2O_5 系ガラスの電気伝導と誘電緩和現象およびその含水量依存性
- サファイヤの界面分極と導電率
- 酸化コバルト, 酸化ニッケルおよびそれらの混晶の誘電特性
- 単分域 LiNbO_3 結晶をつくる3つの技術
- チタン酸バリウム型セラミック半導体のための電極
- 酸素プラズマ中における高純度酸化物誘導体の形成
- 酸化物ガラスの反導性 : 圧力の効果
- 酸化第二鉄焼結体における Maxwell-Wagner 分極
- 高アルミナ質磁器の誘電損失に及ぼす二次結晶相の効果
- Fe_2O_3を基礎とした半導性ガラスの構造の研究(3.ガラス・琺瑯)
- 鉄を含む電子伝導性ガラスの電導に及ぼすアルカリ酸化物の影響(3.ガラス・琺瑯)
- ライム及びボレートガラスにおけるルビジウム