齋藤 真澄 | 東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー

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概要

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• 同名の論文著者
• 東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリーの論文著者

関連著者

• 安武 信昭

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 木下 敦寛

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 外園 明

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 張 利

  東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー

• 齋藤 真澄

  東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー

• 安武 信昭

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 楠 直樹

  東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 小池 三夫

  東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー

• 竹野 史郎

  東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー

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著作論文

• 走査型拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)を用いたソース・ドレインにおける高分解能イメージング及び高精度プロービング解析

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