安井 秀明 | 松下電器産業(株)デバイス工法開発研究所

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• 津田 善行

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著作論文

• 酸化物ターゲットを用いたDCスパッタITO膜 : プラズマ状態と基板温度の影響
• 酸化物ターゲットを用いたDCスパッタITO膜 : 第2報 : 搬送成膜結果
• 酸化物ターゲットを用いたDCスパッタITO膜 : 第1報 : 低温ガラス基板への作製

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