松井 安次 | 技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)
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概要
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室) | 論文
- Ta/SiC X-Ray Mask
- EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討(配線・実装技術と関連材料技術)
- 高精度電子ビーム描画装置によるX線マスク描画特性
- Isolated Nanometer-Size Si Dot Arrays Fabricated Using Electron-Beam Lithography, Reactive Ion Etching, and Wet Etching in NH_4OH/H_2O_2/H_2O