小松 康俊 | ソニー(株)厚木テクノロジーセンターセミコンダクターカンパニー超lsi研究所先端素子研究部
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概要
ソニー(株)厚木テクノロジーセンターセミコンダクターカンパニー超lsi研究所先端素子研究部 | 論文
- サブクォータミクロンを有するMONOS型メモリーセルの開発 : ボトム酸化膜へのRTN処理の効果
- 0.1μmMOSトランジスタに対するエキシマレーザーアニール
- ED2000-45 / SDM2000-45 0.1μmMOSトランジスタに対するエキシマレーザーアニール
- 4Mbit MONOSメモリーセルアレイにおける狭いVthの分布とセルオペレーションに対する影響
- MONOSメモリのトラップ密度に依存したプログラム特性の解析モデルとMONSメモリへの応用