野村 健二 | 富士通研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 富士通研究所の論文著者

関連著者

• 淡路 直樹

  富士通研究所

• 野村 健二

  富士通研究所

• 磯上 慎二

  東北大院工

• 中村 哲也

  JASRI

• 鈴木 基寛

  高輝度光科学研究センター

• 角田 匡清

  東北大工

• 鈴木 基寛

  (財)高輝度光科学研究センター

• 鈴木 基寛

  Jasri Spring-8

• 鈴木 基寛

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 角田 匡清

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 磯上 慎二

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 中村 哲也

  高輝度セ

• 高橋 功

  関学大理工

• 鈴木 基寛

  高輝度セ

• 土井 修一

  富士通研究所

• 中村 哲也

  理研

• 土井 修一

  関学大理

• 田中 律寿

  関学大理ハイテク・リサーチ・センター

• 高橋 功

  関学大理ハイテク・リサーチ・センター

• 加田 敏照

  関学大理

• 小宮 聰

  富士通研究所

• 田中 律寿

  関学大理

• 角田 匡清

  東北大学大学院 工学研究科

• 鈴木 基寛

  SPring-8:JASRI

• 高橋 功

  関学大理

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著作論文

• 22aPS-22 フーリエ変換ホログラフィーによる磁気ドメイン観察の試行(22aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
• 27aXE-9 窒素導入による酸化シリコン膜とシリコン基板の界面構造の変化

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