中村 浩介 | (株)日立製作所日立研究所

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概要

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• 中村 浩介

  (株)日立製作所日立研究所

• 中村 浩介

  (株)日立製作所

• 祖父江 昌久

  (株)日立製作所日立研究所

• 安富 義幸

  (財)ファインセラミックスセンター

• 松下 安男

  (株)日立製作所日立研究所

• 竹田 幸男

  (株)日立製作所日立研究所:(現)ジャテック(株)

• 竹田 幸男

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• 安富 義幸

  (株)日立製作所日立研究所エネルギー素子研究部

• 前田 邦裕

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• 竹田 幸男

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• 北 英紀

  独立行政法人産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門高温部材化プロセス研究グループ

• 酒井 淳次

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• 北 英紀

  (株)いすゞ 中央研究所 基盤技術研究部

• 荒戸 利昭

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著作論文

• 導電性Si_3N_4結合TiNセラミックスの開発と特性評価
• SiC焼結体の熱伝導率及び電気抵抗率に及ぼす焼結助剤の影響
• BeO添加SiC焼結体の特性に及ぼす製造条件の影響
• 多孔質Al_2O_3焼結体の耐熱衝撃特性
• 高強度Si_3N_4結合SiCセラミックスの開発
• 活性化エネルギー測定によるSi粉末窒化触媒の評価
• SiC焼結体の熱伝導率及び電気抵抗率に及ぼす焼結助剤の影響
• スリップキャスティング成形における脱水速度の解析
• シリコン系セラミックス (先端技術を支える新しいセラミックス)

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