小嶋 研史 | 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

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概要

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• 同名の論文著者
• 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻の論文著者

関連著者

• 石川 順三

  Dep. Of Electronics And Information Engineering Chubu Univ.

• 辻 博司

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科

• 辻 博司

  Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 洗 暢俊

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 中塚 博之

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 後藤 直行

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 箕谷 崇

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 小嶋 研史

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 奥峰 徹也

  シャープ株式会社デバイス技術研究所

• 足立 浩一郎

  シャープ株式会社デバイス技術研究所

• 小滝 浩

  シャープ株式会社デバイス技術研究所

• Hirama Toshiyasu

  Research Center For Charged Particle Therapy National Institute Of Radiological Sciences

• Tsujii Hirohiko

  バングラデシュ

• 辻 博司

  京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科

• 辻 博司

  京都大学大学院工学研究科

• 中嶋 薫

  京大院工

• 木村 健二

  京大院工

• 中嶋 薫

  京都大学大学院工

• 木村 健二

  京都大学大学院工

• 木村 健二

  京大 大学院工学研究科

• 中嶋 薫

  京大 大学院工学研究科

• 原田 真臣

  シャープ株式会社技術本部基盤技術研究所

• 柳谷 敏雄

  シャープ株式会社技術本部基盤技術研究所

• 大西 均

  シャープ株式会社技術本部基盤技術研究所

• 佐藤 剛

  シャープ株式会社技術本部基盤技術研究所

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著作論文

• 高分解能ラザフォード後方散乱分析(RBS)による銀負イオン注入熱酸化薄膜における銀の熱拡散分布の測定と拡散障壁による単層銀ナノ粒子の形成
• 負イオン注入形成Geナノ粒子含有SiO_2薄膜の電気的特性

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