加藤 純一 | 理研

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概要

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• 加藤 純一

  理研

• 加藤 純一

  理化学研究所

• 山口 一郎

  理研・光工学

• 山口 一郎

  理化学研究所

• 大森 整

  理化学研究所

• 山口 一郎

  理研

• 山形 豊

  理化学研究所

• 山形 豊

  理化学研究所中央研究所

• 牧野内 昭武

  理化学研究所

• 守安 精

  理化学研究所

• 森田 晋也

  理化学研究所

• 林 偉民

  理化学研究所

• 守安 精

  理研

• 中川 威雄

  東京大学生産技術研究所先端素材開発研究センター

• 守安 精

  東大生研

• 守安 精

  東京大学生産技術研究所

• 中川 威雄

  ファインテック(株)

• 河田 聡

  理化学研究所:大阪大学

• 河田 聡

  理化学研究所基幹研究所 ナノフォトニクス研究室

• 中川 威雄

  東大生研

• 中川 威雄

  東大・生産技術研究所

• 山形 豊

  理化学研究所vcad加工応用チーム

• 林 偉民

  秋田県立大学 システム科学技術学部機械知能システム学科

• 中川 威雄

  ファインテック

• 河田 聡

  理化学研究所

• 小崎 美勇

  東京電機大学:理化学研究所

• 隆 雅久

  青山学院大学理工学部

• 古谷 涼秋

  東京電機大学工学部

• 河西 敏雄

  埼玉大学

• 劉 長嶺

  理研

• 伊藤 伸英

  茨城大学

• 劉 長嶺

  埼玉大学

• 古谷 涼秋

  東京電機大学

• 森田 晋也

  東大院

• 宮内 克己

  (株)日立製作所基礎研究所

• 小野寺 理文

  能開大

• 森 雅雄

  日本ピラー工業(株)

• 劉 長嶺

  理化学研究所

• 伊藤 伸英

  茨城大学工学部機械工学科

• 中川 威雄

  東大

• 中島 俊典

  理研

• 高増 潔

  東京電機大学

• 小仲 政雄

  日本ピラー工業(株)

• 大前 勝

  日本ピラー工業(株)

• Takacs P

  Brookhaven National Lab.

• 隆 雅久

  青山学院大学

• 隆 雅久

  青山学院大学理工学部機械工学科

• 村澤 剛

  青山学院大学理工学部

• 小崎 美勇

  東京電機大学

• 山口 一郎

  理化学研究所3dfd開発チーム

• 松崎 博和

  青山学院大学理工学研究科機械工学専攻

• 劉 紀元

  理化学研究所光工学研究室

• 山口 一郎

  埼玉大学理工学研究科

• 中島 俊典

  埼玉大学理工学研究科

• 加藤 純一

  埼玉大学理工学研究科

• Takacs Peter

  BNL

• 名取 英輔

  学習院大・院

• 山口 ー郎

  理研

• 高増 潔

  東京電機大学工学部

• 中川 威雄

  東大 生産技研

• 大森 整

  素形材工学

• 小崎 美勇

  理化学研究所

• 宮内 克己

  (株)日立中央研究所

• 中川 威雄

  東京大学生産技術研究所

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著作論文

• 微小工具による光学素子・光学部品のポリシング法の研究 : 平面と球面ミラーの超精密ポリシングと平面開口合成計測法
• 位相シフトデジタルホログラフィーを用いた表面変位計測
• 銀レリーフ型表面プラズモンホログラフィにおける像再生特性
• 機上形状計測におけるプローブ取付誤差の測定精度への影響
• 半導体レーザー変調を用いた能動型位相シフト干渉計
• あなたは右利き?左利き? : Web でたどる左手系マテリアルの世界(2)
• 光応用計測
• 2003年度光科学及び光技術調査委員会のスタートにあたって
• 19.2.光学機器(19.情報・精密機械)(機械工学年鑑)
• 223 LTP(Long Trace Profilometer)による機上形状計測(OS5 電子部品・光学部品の超精密加工)
• LTP(Long Trace Profilometer)による機上形状計測
• 19.2 光学機器(19.情報・精密機械)
• 機上計測用縦型超精密触針式形状測定プローブの開発
• 光形状計測における計算機利用の現状と将来
• スペックル相関を用いた移動量センサー (特集 光・電波による移動体の計測)
• 機上計測用小型触針式形状測定ブロープの特性評価
• 非球面リファレンスを用いた非球面干渉計測
• 機上計測用高精度小型触針式形状測定センサの開発
• 広帯域スペクトル光波干渉計における位相解析とその応用
• 実時間干渉じま解析とその応用(光計測の新しい潮流)
• スペックル相関2次元面内変位センサ
• 21世紀のキーテクノロジーの基礎を築く(精密工学の最前線)
• 色素ド-プ液晶セルの集束ビ-ムに対する自己偏光変調特性
• 能動型干渉計を用いた実時間表面形状測定装置における制御パラメ-タ-の最適化
• 逆符号ティルト縞を用いた撮像系の評価
• 位相シフト法による波長走査干渉縞の処理とその形状測定への応用
• オプトメカトロニクスにおけるフレキシブル光計測(オプトメカトロニクスの基礎技術)
• ファイバーバンドルの非球面加工とその応用
• 超精密ELID研削における非球面形状の制御
• 超精密ELID研削における非球面形状の制御 (第3報 : 形状誤差の収束性の評価)
• 色素ド-プ液晶の光誘起複屈折変調
• 実時間縞画像処理を用いた光学系の適応制御(第3報) -開口合成干渉計の自動化と接続誤差の1除去法-
• 超精密ELID研削における非球面形状の制御
• 位相共役光を用いた機能的欠陥検査(最近の高品質光ビーム制御技術)
• 光学的手法による周期構造中の欠陥検出 (欠陥検査・外観検査)
• 白色光再生表面プラズモンホログラフィ

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