井田 一郎 | 電気通信研究所
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概要
関連著者
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井田 一郎
電気通信研究所
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新井 湧三
電気通信研究所
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新井 湧三
電気通信研究所:(現)京都セラミック(株)
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鈴木 誠
千葉大学大学院
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鈴木 誠
電気通信研究所
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福田 満利
電気通信研究所
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福田 満利
日本電信電話公社 電気通信研究所
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井田 一郎
日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所
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古本 俊一
電気通信研究所
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古本 俊一
日本電信電話公社
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稲盛 和夫
京都セラミック
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稲森 和夫
京セラ株式会社
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杉浦 正敏
京都セラミック
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徳永 秀雄
京都セラミック株式会社
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稲盛 和夫
京セラ株式会社
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梶田 三夫
日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所
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梶田 三夫
電気通信研究所
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深瀬 雅彦
電気通信研究所
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飯山 重幸
日本電信電話公社
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飯山 重幸
電気通信研究所
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深瀬 雅彦
電気通信研究所:(現)日本ステアタイト(株)
著作論文
- セラミックの焼成温度と構造特性の関係 : (第2報)破断面, ラップ面およびポリシ面の構造
- セラミックの焼成温度と構造特性の関係 : (第1報) 製造条件と材料の性質
- ダイヤモンド砥石によるセラミック研削の特異性 : セラミックの砥粒加工 (第4報)
- ダイヤモンド砥粒によるフォルステライトのラッピング特性 : セラミックの砥粒加工 (第3報)
- セラミックのラッピング特性 : セラミックの砥粒加工(第2報)
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第4報) : 超ミクロ引かきかたさによる工学的ポリシ面の加工変質層の検討(その2)
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第3報) : 超ミクロ引かきかたさによる工学的ポリシ面の加工変質層の検討(その1)
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第2報) : ポリシ過程とポリシ加工層
- ジルコンチタン酸鉛磁器の生産ラッピング
- メタルボンド・ダイヤモンド砥石の目直し : セラミックの砥粒加工 (第5報)
- VHF帯水晶発振子の精密加工に関する研究
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第1報) : 光学的ポリシ面と金相学的ポリシ面の比較
- 水晶ポリシ層における二次われ : 水晶板ポリシングの研究(第4報)
- 水晶ポリシ板の変形影響層について : 水晶板ポリシングの研究(第3報)
- Ga Asの電解研摩
- ジルコンチタン酸鉛磁器のラッピング特性