ジルコンチタン酸鉛磁器のラッピング特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1967-10-05
著者
関連論文
- セラミックの焼成温度と構造特性の関係 : (第2報)破断面, ラップ面およびポリシ面の構造
- セラミックの焼成温度と構造特性の関係 : (第1報) 製造条件と材料の性質
- ダイヤモンド砥石によるセラミック研削の特異性 : セラミックの砥粒加工 (第4報)
- ダイヤモンド砥粒によるフォルステライトのラッピング特性 : セラミックの砥粒加工 (第3報)
- セラミックのラッピング特性 : セラミックの砥粒加工(第2報)
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第4報) : 超ミクロ引かきかたさによる工学的ポリシ面の加工変質層の検討(その2)
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第3報) : 超ミクロ引かきかたさによる工学的ポリシ面の加工変質層の検討(その1)
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第2報) : ポリシ過程とポリシ加工層
- ジルコンチタン酸鉛磁器の生産ラッピング
- メタルボンド・ダイヤモンド砥石の目直し : セラミックの砥粒加工 (第5報)
- VHF帯水晶発振子の精密加工に関する研究
- 半導体結晶のポリシ加工に関する研究(第1報) : 光学的ポリシ面と金相学的ポリシ面の比較
- 水晶ポリシ層における二次われ : 水晶板ポリシングの研究(第4報)
- 水晶ポリシ板の変形影響層について : 水晶板ポリシングの研究(第3報)
- フォルステライト-テフロイト系子溶磁器(マンガンフォルステライト磁器)の熱膨張と電気的特性
- GaAsの薄片作成技術
- Ga Asの電解研摩
- Ga Asの化学研摩過程 : Ga Asの化学研摩(第2報)
- ディスク式化学研摩装置の試作 : GaAsの化学研摩(第1報)
- ジルコンチタン酸鉛磁器のラッピング特性
- 絶縁磁器と抵抗体