奥和田 久美 | (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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概要

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関連著者

• 奥和田 久美

  (株)東芝総合研究所

• 奥和田 久美

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 斎藤 真美

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 斎藤 真美

  (株)東芝 セミコンダクター社マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 奥和田 久美

  青山学院大学理工学部電気電子工学科

• 小松 周一

  (株)東芝総合研究所

• 小松 周一

  (株)東芝 研究開発センター

著作論文

• ゾル・ゲル法によるSrTiO_3膜の作製
• 1V動作可能な強誘電体メモリ用SBT膜の形成
• 1 V 動作可能な強誘電体メモリ用SBT膜の形成
• 1V動作可能な強誘電体メモリ用SBT膜の形成

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