小糸 達也 | NEC(株)基礎・環境研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• NEC(株)基礎・環境研究所の論文著者

関連著者

• 小糸 達也

  NEC(株)基礎・環境研究所

• 青木 秀充

  Necエレクトロニクス(株)プロセス技術事業部

• 位地 正年

  Nec(株)基礎・環境研究所

• 平野 啓二

  NEC(株)基礎・環境研究所

• 笠間 佳子

  NECエレクトロニクス(株)プロセス技術事業部

著作論文

• Cu/Low-Kビアホールのクリーニング〔含 英文〕 (新しい地球環境と豊かなネットワーク社会を生み出す半導体技術) -- (セッション4 多層配線/エッチング--Cu/Low-k実用化が進む中での多層配線/エッチング技術動向)
• Cu/Low-k デバイスに対応した環境適合型の有機剥離液の開発
• 環境負荷低減を目的としたCu/Low-k用有機剥離液の開発 (環境特集) -- (環境技術開発)

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