Choi Jun-Oh | Semiconductor Advanced Research Division, Hyundai Electronics

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A 0.1μm CMOS Technology using W/WN_x/Polysilicon Dual Gate Electrode for 4G DRAM and Beyond
A 0.1μm CMOS Technology using W/WN_x/Polysilicon Dual Gate Electrode for 4G DRAM and Beyond
A 0.1μm CMOS Technology using W/WN_x/Polysilicon Dual Gate Electrode for 4G DRAM and Beyond

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