立花 明知 | 京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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概要
関連著者
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立花 明知
京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻
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立花 明知
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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立花 明知
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻ナノサイエンス講座量子物性学分野
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立花 明知
京都大学大学院工学研究科分子工学専攻
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土井 謙太郎
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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阪本 俊夫
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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立花 明知
京大工
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鈴木 克昌
大陽日酸株式会社
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相良 文彦
京都大学大学院工学研究科
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石原 良夫
日本酸素(株)つくば研究所
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中村 康一
京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻
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井蓋 直臣
京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻
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鈴木 克昌
日本酸素(株)電子機材営業本部マーケティング統括部
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上原 寛貴
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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中村 康一
京大院工
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相良 文彦
京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻
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立花 明知
京都大学
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井蓋 直臣
京大院工
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吉田 聖一
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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毎田 憲亮
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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石原 良夫
大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部
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石原 良夫
日本酸素(株)
著作論文
- 量子化学計算によるGeH_4分解挙動解析
- 高誘電率ゲート絶縁膜における電子ストレスのRigged QED (Quantum Electrodynamics)理論に基づく第一原理計算 : 核-電子-電磁場複合ダイナミクスの第一原理計算プログラム開発(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- シリコン酸窒化膜の安定性と電子構造に関する理論研究の現状
- 密度汎関数法による化学反応計算の概説
- 化学気相成長(CVD)プロセスの量子化学