高橋 友規 | 東京工芸大学工学部
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概要
関連著者
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星 陽一
東京工芸大学工学部
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高橋 友規
東京工芸大学工学部
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星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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神谷 攻
東京工芸大学工学部
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川口 茂利
東京工芸大学工学部
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星 陽一
東京工芸大学工学部システム電子情報学科
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鈴木 英佐
東京工芸大学工学部
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神谷 攻
キヤノン株式会社生産技術研究所
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鈴木 英佐
東京工芸大学工学部電子工学科
著作論文
- C-6-9 ターゲット-基板間距離によるTiO_2薄膜の高速成膜法の検討(C-6. 電子部品・材料, エレクトロニクス2)
- スパッタ法によるTiO_2薄膜の高速成膜法の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-5 TiO_2薄膜の反応性スパッタにおける堆積速度減少の機構について(C-6.電子部品・材料)