Kundu Manisha | 半導体MIRAI-産総研ASRC
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
生田目 俊秀
半導体MIRAI-ASET
-
鳥海 明
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
堀川 剛
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
市川 昌和
半導体mirai-産総研asrc:東大
-
鳥海 明
半導体mirai-産総研asrc:東京大学工学部マテリアル工学科
-
宮田 典幸
アトムテクノロジー研究体
-
鳥海 明
東京大学
-
宮田 典幸
次世代半導体研究センター
-
宮田 典幸
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
Kundu Manisha
半導体MIRAI-産総研ASRC
-
生田目 俊秀
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)(独)物質・材料研究機構
-
市川 昌和
東京大学 工学部 物理工学科
-
鳥海 明
半導体MIRAI-産総研,東大工
著作論文
- HfO_2ゲート絶縁膜の熱的安定性 : 界面層の成長およびシリサイドの形成(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
- HfO_2ゲート絶縁膜の熱的安定性 : 界面層の成長およびシリサイドの形成(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))