室谷 利夫 | 三菱電機中研

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著作論文

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• GaAsの分子線エピタキシャル成長 : 融液成長と蒸着膜
• 23p-N-6 Si, Mo及びWの表面準位からの光電子放出
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• オージェ電子分光と電子衝撃脱離法

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