山方 憲二 | キャノン(株) デバイス開発本部 ELTRAN 事業推進センター

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概要

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• 柳田 一隆

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• 柿崎 恵男

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著作論文

• 0.1μm時代の高品質SOIウエハー技術
• 解説 ELTRANの作成工程および装置技術を中心に解説 300mmSOIウェハ生産技術の動向 (特集2 実用化進む最先端半導体製造技術&装置)

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