宇理須 恒雄 | 分子科学研究所 反応動力学部門
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概要
関連著者
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宇理須 恒雄
分子科学研究所 反応動力学部門
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宇理須 恒雄
分子科学研究所
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宇理須 恒雄
分子研
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宇理須 恒雄
総合研究大学院大学分子科学研究所
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吉越 章隆
日本原子力研究所関西研究所表面科学研究グループ
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宇理須 恒雄
岡崎国立共同研究機構分子科学研究所
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今泉 吉明
東北大学金属材料研究所
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銘苅 春隆
分子科学研究所
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野々垣 陽一
岡崎国立共同研究機構分子科学研究所
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宇理須 恒雄
総合研究大学院大学
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野々垣 陽一
分子科学研究所
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服部 正
日本電装株式会社基礎研究所
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小川 博司
佐賀大学シンクロトロン光応用研究センター
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西尾 光弘
分子科学研究所
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永久保 雅夫
日本電装(株)基礎研究所
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吉越 章隆
豊橋技術科学大学
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手老 龍吾
分子科学研究所
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平野 真也
総合研究大学院大学分子科学研究所
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吉越 章隆
豊橋技科大
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吉越 章隆
総合研究大学院大学
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間瀬 一彦
分子科学研究所
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宮前 孝行
分子科学研究所
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銘苅 春隆
総合研究大学院大学
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服部 正
日本電装
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大原 淳士
日本電装
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鈴井 光一
分子科学研究所
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山村 周作
総合研究大学院大学分子科学研究所
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津坂 佳幸
分子科学研究所
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三澤 宣雄
総合研究大学院大学
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今泉 吉明
総合研究大学院大学
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小川 博司
佐賀大学 理工学部
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水谷 伸雄
分子科学研究所 装置開発室
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高田 紀子
分子科学研究所 装置開発室
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青山 正樹
分子科学研究所 装置開発室
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鈴井 光一
分子科学研究所 装置開発室
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三澤 宣雄
豊橋技術科学大学
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山村 周作
総合研究大学院大学
著作論文
- 放射光励起プロセス-現状と今後の課題-
- 放射光励起による表面光反応プロセス
- 赤外反射吸収分光法 - 放射光励起プロセスのその場観察 -
- 埋め込み金属層基板を用いた赤外反射吸収スペクトル法による放射光励起半導体プロセス反応のその場観察
- 放射光励起プロセス研究用多層膜ミラービームライン
- 高エネルギー光励起によるPZT(Pb(Zr_X, Ti_)O_3)の表面改質
- アンジュレータSTMビームラインを用いた水素終端Si(111)表面からの水素脱離観察
- SiO_2表面へのアビジン単分子層作製と脂質膜形成への応用
- 学術としてのバイオインターフェイス
- 単色放射光励起によって堆積したAl膜組成の励起エネルギー依存性
- 渉外幹事この一年
- シンクロトロン放射光によるナノメートル加工と原子分子レベルでの反応評価
- 放射光励起プロセスの現状と将来展望
- 渉外幹事この一年
- 放射光Al-CVDにおけるサイトスペシフィック効果
- 高輝度X線源の利用技術-半導体プロセスへの応用-
- 表面光化学(VUV-11本会議報告)
- 多チャンネル神経細胞ネットワーク素子の開発