近藤 洋文 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)

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概要

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関連著者

• 近藤 洋文

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)

• 石井 清

  宇都宮大学工学科機能創成部

• 石井 清

  宇都宮大学

• 佐久間 洋志

  宇都宮大学

• 須藤 隆吉

  宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻

• 荒巻 慶輔

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社

• 尹 〓成

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社

• 近藤 洋文

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社

• 荒巻 慶輔

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)

• 尹 〓成

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)

• 近藤 洋文

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社

• 佐久間 洋志

  宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻

• 近藤 祐邦

  宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻

• 佐久間 洋志

  東京工業大学総合理工学研究科

• 渡辺 裕也

  宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻

• 池田 義人

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)

• 池田 義人

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)

• 石井 清

  宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻

• 尹 〓成

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社

• 荒巻 慶輔

  ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社

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著作論文

• ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性(材料デバイスサマーミーティング)
• ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性(材料デバイスサマーミーティング)
• ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性(材料デバイスサマーミーティング)
• C-6-6 ガスフロースパッタ法によるZnO薄膜の作製(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
• 反射防止(AR)フィルム用の防汚膜の設計 (ディスプレー・光学機器の「指紋汚れ」を防ぐ耐指紋性コーティング・フィルム)

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