山中 博 | トーメイダイヤ(株)
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概要
関連著者
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山中 博
トーメイダイヤ(株)
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細見 暁
トーメイダイヤ(株)
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広瀬 洋一
東海大学電子情報学部エレクトロニクス学科
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広瀬 洋一
東海大 電子情報
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細見 曉
トーメイダイヤ(株)
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細見 暁
トーメイダイヤ株式会社
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広瀬 洋一
日本工業大学
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広瀬 洋一
東海大学 電子情報学部
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阿部 匡朗
東海大学 工学部
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廣澤 さくら
東海大学 工学部
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石川 豊
日本工業大学 工学部
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大島 龍司
トーメイダイヤ(株)
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大島 龍司
トーメイダイヤ(株)小山工場
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石川 豊
日本工業大学
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飯田 昌盛
東海大学工学部電子工学科
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西村 一仁
高知県工業技術センター
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三上 敏秀
日本工業大学 工学部
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広瀬 洋一
東海大学工学部電子工学科
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松前 義昭
東海大学工学部電子工学科
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盛口 襄
日本工業大学電気電子工学科
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山中 博
日本工業大学電気電子工学科
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江 南
徳島大学
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盛口 襄
渋谷教育学園幕張高等学校
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笹岡 秀紀
高知県産業振興センター
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西村 一仁
高知県産業振興センター
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江 南
高知工科大学
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飯田 昌盛
東海大学
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粂川 勝美
トーメイダイヤ(株)
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森野 志津香
トーメイダイヤ(株)
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中村 嘉勝
日本工業大学 工学部
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笹岡 秀紀
高知FEL(株)
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山中 博
トーメイダイヤ株式会社
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飯田 昌盛
東海大学工学部
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広瀬 洋一
東海大学工学部
著作論文
- ダイヤモンドを陰極とした直流プラズマCVD法におけるダイヤモンド薄膜の高速合成の試み
- ダイヤモンド陰極を低温にした直流放電プラズマCVD法によるダイモンド薄膜の合成
- 常圧直流プラズマCVD法を用いたダイヤモンド薄膜の合成
- 陰極にダイヤモンドを用いた直流プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の合成
- メタノールのみを用いた簡易ダイヤモンド合成装置の製作
- 熱処理ナノダイヤモンド砥粒のTEM観察
- 熱処理したサブミクロンダイヤモンドの加工特性
- 熱処理を施したサブミクロンダイヤモンド砥粒の表面性状(セラミック材料)
- 塩素を用いた焼成ダイヤモンドの分散
- サブミクロンダイヤモンドにおける表面挙動 : 吸着酸素の影響(セラミック材料)
- カーボンナノコイルの低温合成
- 最近のダイヤモンド砥粒技術